28.10.2013
Источники питания для промышленного напыления TDK – Lambda.
-
Компания TDK – Lambda представляет источники питания для промышленного напыления.
-
Напыление представляет собой процесс, который часто используется для нанесения тонкого слоя благородных металлов на основу, с целью повышения ее технических или механических характеристик.
-
-
Один из методов вакуумное напыление — заключается в испарении материала ,ускоряемого за счет генерирования электрического поля с требуемыми характеристиками .и последующим его напылением на основу.
-
Электронно-лучевое напыление выполняется в вакуумной камере.
- Для питания нити накаливания ,магнитов и контура фокусирования используются источники питания постоянного тока. Они обеспечивают следующее:
- постоянную температуру нити накаливания
- фокусирование луча с помощью магнитного потока
- поддержание отклонения магнитного потока
- Точное управление всеми этими параметрами в сочетании с использованием высокопроизводительных источников питания с низким уровнем пульсации тока и высокими динамическими характеристиками обеспечивает высокое качество и равномерность напыления. Повышение качества и надежности процесса минимизирует отходы и повышает надежность продукта.
- Источники питания ZUP , Z+ Genesys обеспечивают полный контроль над током и выходным напряжением , а также обратную связь по этим параметрам. Диапазон номинальной мощности от 200 Вт до 15 кВт с помощью параллельного подключения до 4 -х устройств ,обеспечивающего повышение мощности до 60 кВт и выходного тока до 4000 А.
<<< Назад